面向半导体封装测试行业的全链路良率管理平台。将分散在 SAP、MES、CIM、S3、设备机台中的异构数据统一融合,实现从 Overall Yield 总览到 Single Defect 根因定位、从人工 Excel 到 AI 自动分析的良率管理范式升级。
传统良率分析依赖 Excel、JMP 和跨系统手工取数,一次完整分析往往需要近 3 天。YMS 将这一过程压缩到 30 分钟,让良率工程师从「数据搬运工」变成「问题洞察者」。
从宏观总览到微观根因,从被动响应到主动预警,构建半导体封测良率管理的完整闭环。
按产品 Phase、封装类型、时间维度自动聚合良率趋势,Top 5 缺陷帕累托一键呈现,快速锁定影响最大的缺陷类型。
自动计算单缺陷 PPM,支持多日期对比与工艺站细节下钻,从缺陷代码直达设备、批次、工位级数据。
通过桑基图可视化追溯缺陷在材料、设备、站点、人员等维度上的分布,快速聚焦异常因子,缩小根因范围。
基于系统分析结果自动填充数据与基础信息,生成 FARCCA 报告并流转审批,替代 8 小时手工填报。
良率/缺陷指标超标自动触发告警,结合企业微信/邮件推送,实现从「事后复盘」到「事中干预」的转变。
基于历史问题、根因与对策构建 RAG 知识库,结合 LLM 实现根因意图识别与解决方案智能推荐。
以业务价值为牵引,分阶段构建良率管理、全链路追溯与智能决策能力,降低实施风险,快速兑现价值。
从数据源接入到应用呈现,从离线数仓到实时告警,构建高可用、可扩展的良率管理技术底座。
多源异构数据接入,完成数据清洗、关联、匹配与融合,统一良率/缺陷指标体系。
基于 Doris 分布式数仓实现高性能指标计算,支持实时/离线告警推送。
通过 LeanCodee 快速搭建良率分析页面、FARCCA 流程与工单闭环,业务可自主迭代。
将历史分析经验、根因与对策沉淀为可检索的知识资产,实现组织级能力复用。
不是一次性交付闭源系统,而是通过联合团队、原型先行、低代码平台赋能,让客户具备持续自增长能力。